9月14日消息，從工業和信息化部在官網公布的《首臺重大技術裝備推廣應用指導目錄》來看，國產光刻機已取得重大突破，氟化氬光刻機套刻≤8nm。 在《首臺重大技術裝備推廣應用指導目錄》中，也公布了氟化氬光刻機其他的核心技術指標，晶圓直徑300mm，照明波長193nm，分辨率≤65nm。 此外，《首臺重大技術裝備推廣應用指導目錄》中還有氟化氪光刻機，晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。 除了光刻機，工信部在印發的《首臺重大技術裝備推廣應用指導目錄》中，還有多類集成電路生產裝備，包括矽外延爐、濕法清洗機、氧化爐...